안 코 나s31688 스 테 인 리 스 강판강력한 경쟁 집중

출시 시간:2022-06-24 17:33:40 사용자 게시:717HP127443542 페이지 뷰:435

핵심 팁:안 코 나,고용 처리.강 을 ~ ℃ 로 가열 한 후 물 을 담금질 하 는데 주요 목적 은 탄화물 을 오 스 테 나이트 에 용해 시 키 고 이 상 태 를 실 온 으로 유지 하 는 것 이다. 그러면 강의 내식 성 이 크게 개

고용 처리.강 을 ~ ℃ 로 가열 한 후 물 을 담금질 하 는데 주요 목적 은 탄화물 을 오 스 테 나이트 에 용해 시 키 고 이 상 태 를 실 온 으로 유지 하 는 것 이다. 그러면 강의 내식 성 이 크게 개 선 될 것 이다.위 에서 말 한 바 와 같이 수정의 부식 을 방지 하기 위해 서 는 보통 고용 화 처 리 를 사용 하여 CrC 를 오 스 테 나이트 에 녹 인 후에 빠르게 냉각 시킨다.부품 에 대해 서 는 공 냉 을 사용 할 수 있 으 며, 일반적인 상황 에 서 는 수 랭 을 사용한다.

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크롬의 첨가 량 이 % 에 이 르 렀 을 때 강철의 대기 부식 방지 성능 은 현저히 증가 하 였 으 나 크롬의 함량 이 더욱 높 을 때 부패 방지 성 을 높 일 수 있 으 나 뚜렷 하지 않다.크롬 으로 강 을 합금 화 처리 할 때 표면 산화물 의 유형 을 순 크롬 금속 에 형 성 된 표면 산화물 로 바 꾸 었 기 때문이다.이런 긴밀 하 게 붙 어 있 는 부 크롬 산화물 은 표면 을 보호 하여 진일보 한 산 화 를 방지한다.이런 산화 층 은 매우 얇 아서 그것 을 통 해 강 표면의 자연 광택 을 볼 수 있 고 스 테 인 리 스 스틸 로 하여 금 독특한 표면 을 가지 게 한다.그리고 표층 을 손상 시 키 면 나 오 는 강 표면 과 대기 반응 을 자체 수리 해 이런 둔화 막 을 다시 만들어 보호 작용 을 계속 한다.

스 테 인 리 스 강 은 산화 현상 이 자주 발생 하 는 세 가지 원인: 생산 공정 원인 은 철 강 제품 이 산화 되 는 원인 중 하나 이다. 생산 공정 과 제품 특성 에 있어 제품 표면 에 얇 은 산화 막 을 형성 하 는 것 은 산화 가 발생 하지 않도록 하 는 기초 공정 이자 철 강 제품 이 다른 철 강 제품 과 구별 되 는 주요 특징 중 하나 로 제품, 재생 자원 업무, 업무 가방 에 전문 적 으로 종사 하 는 것 이다.개괄: 스 테 인 리 스 강판, 스 테 인 리 스 강 코일, 전통 적 으로 크롬 염 을 함유 한 둔화 처 리 는 점점 도태 되 었 고 스 테 인 리 스 강의 둔화 처 리 는 환경 우호 적 인 방향 으로 발전 했다.최근 스 테 인 리 스 스틸 표면 구연산 둔화 와 실리콘 처 리 는 사람들 이 연구 하 는 새로운 방향 이 되 었 다. 전 자 는 둔화 액 성분 이 크롬 염 을 함유 하지 않 아 친 환경 적 특성 을 가지 고 있다. 후 자 는 연 구 를 통 해 실리콘 결합 제 화학 흡착 이 금속 표면 에 덮 여 있 고 교련 그물 모양 구조의 보호 실리콘 막 을 형성 하 는 것 을 발견 했다.파란색 점 법 으로 서로 다른 표면 처리 후 견본 의 변색 시간의 길 이 를 비교 하고 소금물 담 금 시험 을 이용 하여 서로 다른 표면 처리 후 견본 의 부식 속도 의 크기 를 구분 하 였 으 며,안 코 나스 테 인 리 스 강판 복막 기, 중성 염 무 시험 으로 서로 다른 표면 처리 후 견본 내 염 안개 성의 우열 을 판별 하 였 다.전기 화학 테스트 를 이용 하여 서로 다른 표면 처리 후 견본 의 부식 방지 성능 의 차이 와 부식 매체 에 대한 저항력 의 차 이 를 비교 하고 막 중 테스트 를 통 해 실리콘 막 의 막 두 께 를 간접 적 으로 표징 하고 전자 현미경, 에너지 분광기, X 선 회절 기 를 스 캔 했다.X 선 광전자 에너지 분광기 와 전반사 푸 리 엽 변환 적외선 스펙트럼 계 기 는 서로 다른 표면 처리 견본 표면 박막 을 징 징 하여 서로 다른 박막 의 구조 구성 과 내식 메커니즘 을 분석 했다.전문 스 테 인 리 스 스틸 판, 스 테 인 리 스 스틸 코일, 스 테 인 리 스 스틸 튜브 고가, 서비스, 현장 결산, 성실 경영!현재 스 테 인 리 스 스틸 에 대해 구연산 둔화 와 실리콘 처 리 를 결합 시 키 는 연구 가 비교적 적 기 때문에 본 고 는 마 씨 체 스 테 인 리 스 스틸 Cr 화학 둔화, 실리콘 처리 와 구연산 둔화 와 산성 실리콘 체계 처 리 를 결합 시 킨 복합 처리 내식 성 차 이 를 연구 하고 그 표면 에 서로 다른 막 층 의 내식 성 기 리 를 연구 하여 스 테 인 리 스 스틸 표면 처리 의 새로운 방향 에 참고 할 수 있다.그리고 일정한 실제 지도 적 의 미 를 가진다.본 고 는 마 씨 체 스 테 인 리 스 강 화학 둔화, 실리콘 처리 와 복합 처리 의 내식 성과 그 기 리 를 연구 하 였 다.연구 결 과 를 종합 적 으로 비교 한 결과 네 가지 내식 성 테스트 에 따 르 면 스 테 인 리 스 스틸 의 서로 다른 표면 처리 의 내식 효과 차이 점 을 나 타 냈 다.먼저 구연산 둔화 후 산성 실리콘 시스템 처리 의 복합 처리 방식 은 우수한 내식 성과 친 환경 특성 을 갖 추고 있어 전통 적 인 - 중 크롬 산 염 둔화 처 리 를 대체 할 전망 이다.막 중 테스트 결과 에 따 르 면 먼저 구연산 둔화 후 산성 실리콘 시스템 으로 처 리 된 복합 처리 견본 표면 실리콘 막 의 무 게 는 단독 산성 실리콘 시스템 처리 후 견본 의 막 보다 낮 다 는 것 은 복합 막 의 우수한 내식 성 이 표층 실리콘 막 에 만 의존 하 는 것 이 아니 라 이중 막 구조 에 도 기인 한 다 는 것 을 의미한다.

  SPHCSPHC——첫 번 째 S 는 스틸 스틸 의 줄 임 말 이 고 P 는 플레이트 의 줄 임 말 이 며 H 는 핫 히트 의 줄 임 말 이 고 C 는 상업 커 머 셜 의 줄 임 말 이 며 전체적으로 열 간 압연 강판 과 강철 띠 를 사용한다.

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